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Home 產業快訊

格棋化合物半導體榮獲第21屆國家新創獎肯定

作者 Ho Carter
2024 年 12 月 31 日
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格棋化合物半導體榮獲第21屆國家新創獎肯定,(左)賴柏帆副總、(右)葉國偉技術長
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台灣專業碳化矽(SiC)長晶技術領導廠商格棋化合物半導體(以下簡稱格棋)宣布,公司以「低缺陷密度八吋碳化矽晶圓技術(Low Defect Density of 8-Inch Silicon Carbide Wafer Technology)」榮獲第21屆國家新創獎-企業新創獎之肯定,該項技術不僅能提高能源效率與減少碳排放,更能促進綠色技術的普及,對於推動地球永續有積極助益。格棋副總經理賴柏帆表示:「格棋核心團隊投入高品質碳化矽(SiC)長晶技術研發將近10年,此次獲獎是對格棋在創新技術和卓越品質方面的高度肯定,也證明我們致力推動綠色科技和永續發展正走在對的道路上。」

格棋以「低缺陷密度八吋碳化矽晶圓技術」展現新創價值與市場競爭力

2050淨零碳排已是全球共識,碳化矽(SiC)在提升能源效率、推動可再生能源發展、加速電動車普及、延長設備壽命及減少資源浪費等方面具有顯著優勢。這些特性使其在實現ESG目標中扮演關鍵角色,特別是在應對氣候變遷、推動綠色能源過渡以及促進社會可持續性方面,碳化矽(SiC)材料都將成為關鍵技術。

由於碳化矽(SiC)晶圓的生產涉及高溫條件和複雜製程工藝,致使良品率較低且低缺陷密度產率低;然而,格棋憑藉將近10年的高品質碳化矽(SiC)長晶技術研發投入,透過熱場參數控制、原材料物性控管、籽晶沾黏技術、模組設計與組裝等四大優勢,有效控制大尺寸碳化矽晶圓的致命缺陷,展現商用大尺寸晶圓的製造能力,尤其在4H單晶碳化矽的領域中,晶圓性能接近甚至超越8吋碳化矽長晶技術性能的水準。此外,格棋更在BPD(基底面差排)、TED(刃型差排)、TSD(螺旋差排)、EPD(蝕刻坑密度)四項密度測試中,展現媲美一線大廠的低缺陷密度產品品質,再次證明格棋擁有國際級的競爭實力。

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格棋提供虛擬IDM和多樣性產品服務,以滿足市場日益增長的多元需求

格棋致力於晶體生長和晶圓的技術開發和製造,不斷追求更精細的製造流程和品質優化,以嚴格的原材料物性控管,降低材料雜質並穩定長晶過程;精確的籽晶沾黏技術,控制籽晶的定位,促進晶體均勻生長;先進的熱場參數控制技術,防止晶體熱裂和結晶缺陷的產生;精密的模組設計與組裝,避免晶體污染和模組變形。憑藉四項核心技術優勢,格棋有效降低晶體的線缺陷、面缺陷以及體缺陷,進一步提升功率元件的效率、可靠性、穩定性及使用壽命。

為滿足市場日益增長的多元需求,格棋提供彈性化的產品組合,包括碳化矽晶體(SiC Ingot)、碳化矽晶圓(SiC Wafer)、碳化矽籽晶(SiC Seed)和碳化矽磊晶晶圓(SiC EPI Wafer),並透過虛擬IDM模式,整合上下游價值鏈,依照客戶屬性,整合包含加工、磊晶、設計、製造、元件等廠商,簡化服務窗口與供應鏈服務客戶。展望未來,格棋將持續推進技術創新,期盼帶動化合物半導體產業的長遠發展。

  • 本文為作者投稿,僅代表作者個人之觀點與意見,與本平台立場無關。涉及之著作權、言論及法律相關責任,均由作者自行承擔。
  • 我已確實了解,台灣新聞聯播網擁有審核及決定是否刊登的權利。如新聞稿有違反法規或被檢舉的疑慮,台灣新聞聯播網有權將其下架刪除,且不另行通知及解釋。
Tags: 晶圓格棋碳化矽
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